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      當前位置:首頁產品中心半導體專業檢測設備晶圓形貌測量系統WD4000無圖晶圓幾何形貌測量系統
      無圖晶圓幾何形貌測量系統

      產品簡介

      WD4000無圖晶圓幾何形貌測量系統是通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產生劃痕缺陷。可兼容不同材質不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數據更準確。

      產品型號:WD4000
      更新時間:2025-04-07
      廠商性質:生產廠家
      訪問量:1126
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      WD4000無圖晶圓幾何形貌測量系統是通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產生劃痕缺陷。可兼容不同材質不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數據更準確。

      無圖晶圓幾何形貌測量系統

      WD4000無圖晶圓幾何形貌測量系統自動測量Wafer厚度、表面粗糙度、三維形貌、單層膜厚、多層膜厚。

      1、使用光譜共焦對射技術測量晶圓Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI等參數,同時生成Mapping圖;

      2、采用白光干涉測量技術對Wafer表面進行非接觸式掃描同時建立表面3D層析圖像,顯示2D剖面圖和3D立體彩色視圖,高效分析表面形貌、粗糙度及相關3D參數;

      3、基于白光干涉圖的光譜分析儀,通過數值七點相移算法計算,達到亞納米分辨率測量表面的局部高度,實現膜厚測量功能;

      4、紅外傳感器發出的探測光在Wafer不同表面反射并形成干涉,由此計算出兩表面間的距離(即厚度),可適用于測量BondingWafer的多層厚度。該傳感器可用于測量不同材料的厚度,包括碳化硅、藍寶石、氮化鎵、硅等。

      無圖晶圓幾何形貌測量系統

      測量功能

      1、厚度測量模塊:厚度、TTV(總體厚度變化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等;

      2、顯微形貌測量模塊:粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、面積、體積等。

      3、提供調整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數據處理功能。其中調整位置包括圖像校平、鏡像等功能;糾正包括空間濾波、修描、尖峰去噪等功能;濾波包括去除外形、標準濾波、過濾頻譜等功能;提取包括提取區域和提取剖面等功能。

      4、提供幾何輪廓分析、粗糙度分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。幾何輪廓分析包括臺階高、距離、角度、曲率等特征測量和直線度、圓度形位公差評定等;粗糙度分析包括國際標準ISO4287的線粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全參數;結構分析包括孔洞體積和波谷。


      WD4000可實現砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、玻璃不同材質晶圓的量測。廣泛應用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業。可測各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等,提供依據SEMI/ISO/ASME/EUR/GBT四大國內外標準共計300余種2D、3D參數作為評價標準。


      無圖晶圓幾何形貌測量系統

      無圖晶圓厚度、翹曲度的測量

      無圖晶圓幾何形貌測量系統

      細磨片25次測量數據Sa曲線圖


      部分技術規格

      品牌CHOTEST中圖儀器
      型號WD4000系列
      測量參數厚度、TTV(總體厚度變化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等
      可測材料砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、 鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、氮化鎵、玻璃、外延材料等
      厚度和翹曲度測量系統
      可測材料砷化鎵 ;氮化鎵 ;磷化 鎵;鍺;磷化銦;鈮酸鋰;藍寶石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等
      測量范圍150μm~2000μm
      掃描方式Fullmap面掃、米字、自由多點
      測量參數厚度、TTV(總體厚度變 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、線粗糙度
      三維顯微形貌測量系統
      測量原理白光干涉
      干涉物鏡10X(2.5X、5X、20X、50X,可選多個)
      可測樣品反射率0.05%~100
      粗糙度RMS重復性0.005nm
      測量參數顯微形貌 、線/面粗糙度、空間頻率等三大類300余種參數
      膜厚測量系統
      測量范圍90um(n= 1.5)
      景深1200um
      最小可測厚度0.4um
      紅外干涉測量系統
      光源SLED
      測量范圍37-1850um
      晶圓尺寸4"、6"、8"、12"
      晶圓載臺防靜電鏤空真空吸盤載臺
      X/Y/Z工作臺行程400mm/400mm/75mm

      請注意:因市場發展和產品開發的需要,本產品資料中有關內容可能會根據實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。

      如有疑問或需要更多詳細信息,請隨時聯系中圖儀器咨詢。


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